China Desarrolla Máquina de Litografía Ultravioleta Extrema para Producir Chips Avanzados

En un movimiento que pone a temblar a Occidente, China ha dado un paso crucial para producir chips de inteligencia artificial avanzados, logrando desarrollar un prototipo de máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), equipamiento clave para la fabricación de componentes de última generación.

El Proyecto Secreto de China

Según un reporte de Reuters, este avance ha sido posible gracias a la colaboración con exempleados de la empresa neerlandesa ASML, líder en este segmento, y aplicando ingeniería inversa a sus equipamientos. La máquina de litografía ultravioleta extrema se terminó de montar a comienzos de este año y se encuentra en etapa de pruebas.

La Ingeniería Inversa y el Espionaje

Los responsables de llevar adelante esta tarea son ingenieros y científicos chinos que previamente se desempeñaron en ASML. La firma europea es líder en la creación de equipamientos de última tecnología para la fabricación de chips avanzados, pero China no puede acceder a ellos de forma directa debido a las restricciones de Estados Unidos.

Para contrarrestar este impedimento, el gigante asiático ha rescatado partes de máquinas más antiguas de la empresa neerlandesa y ha conseguido acceso a otros componentes cruciales a través del mercado de segunda mano.

El Proyecto Manhattan Chino

Lograr la tecnología necesaria para desarrollar chips avanzados se ha convertido en una prioridad de China en los últimos años. Es por ello que esta iniciativa para montar un prototipo de litografía ultravioleta extrema se ha catalogado como la versión china del Proyecto Manhattan, un esfuerzo comparable al de EE. UU. para desarrollar la bomba atómica durante la Segunda Guerra Mundial.

Explora más noticias en nuestra sección: Tecnología